カソードアークプラズマ源 (XHS‑CAIS)
固体金属工質で高電離率・高フラックスの金属イオンビームを生成。コーティングや表面エンジニアリングに最適。
カソードアーク源 XHS‑CAIS
高フラックス金属イオンビーム、交換可能なターゲット
陰極を蒸発・電離して高フラックスの金属イオンビームを生成し、薄膜堆積や表面改質、研究用途に提供。コンパクト設計でターゲット交換と冷却が可能、工程条件を調整できます。
主な特長
- Cu/Ti/Al など複数金属ターゲットに対応
- 高フラックス金属イオンで堆積/改質に好適
- ターゲット交換・冷却モジュールで長時間運転
- Faraday/RPA/LP 診断と組み合わせ可能



主な仕様
| 項目 | 仕様 |
|---|---|
| 対応材料 | 各種金属(カスタム) |
| ビーム電流密度 | 最大 mA/cm²(開口/条件に依存) |
| 冷却/耐久 | 強制冷却 / 交換式陰極 |
| インターフェース | KF / CF / カスタムフランジ |
