RF プラズマ源 (XHS‑RFIS)

RF 結合、コンパクトで電力/周波数をカスタム可能。研究・工業用途に対応。

RF イオン源 XHS‑RFIS

低汚染・容易統合のモジュール型 RF イオン源

RF/ICP を用いた DC 電極レスのプラズマ源。コンパクトでメンテナンスが容易。複数ガスに対応し、材料処理・プラズマ化学や実験/プロセス用イオン源として利用可能。診断機器との組み合わせでビーム/密度校正もしやすい。