射频等离子源（XHS‑RFIS）
射频耦合、结构紧凑、可定制功率/频率，适用于科研与工艺。
射频离子源 XHS‑RFIS
模块化射频耦合离子源，易集成、低污染
基于 RF/ICP 产生稳定离子流，无直流阴极/阳极，结构紧凑且易维护。兼容多种气体，常用于材料处理、等离子化学，或作为实验/工艺级离子源；可配诊断实现束流/密度标定。
核心特性
- 射频耦合，无直流电极，污染低、维护简
- 兼容 Ar/He/N₂ 等气体，易于调参
- 结构紧凑，可选功率/频率与冷却方案
- 便于与探针/法拉第/RPA 联用进行束流诊断
关键规格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 驱动方式 | 射频耦合（ICP/RF） |
| 频率/功率 | 13.56 MHz（或定制）/ 可配置功率 |
| 兼容气体 | Ar / He / N₂ 等 |
| 接口 | KF / CF / 定制法兰 |