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半导体制造解决方案
覆盖反应腔体内等离子体状态监测、关键参数建模与批次一致性评估。
典型挑战
工艺窗口窄,配方切换后参数漂移快。
跨设备数据口径不统一,难以做稳定对比。
在线监测与离线分析割裂,异常定位耗时。
方案能力
构建接触式与光学诊断协同的参数采集框架。
形成工艺关键指标的趋势看板与报警阈值。
支持试产到量产阶段的参数继承与复核。
推荐产品组合
发射光谱(OES)
激光诱导荧光(LIF)
XHINS-RF系列射频等离子源系统(RF/ICP)
需要按你的工况做方案对齐?
提交目标参数与测试边界,我们将给出可执行的实施建议。
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