РФ плазменный источник (XHS‑RFIS)
RF-связанный компактный источник с настраиваемой мощностью/частотой для исследований и процессов.
РФ ионный источник XHS‑RFIS
Модульный RF-источник, низкое загрязнение, простая интеграция
Источник RF/ICP без DC-электродов, компактный и простой в обслуживании. Поддерживает разные газы, используется в обработке материалов и плазмохимии или как лабораторный/процессный ионный источник; легко сочетается с диагностикой для калибровки пучка/плотности.
Ключевые особенности
- RF-связь без DC-электродов — меньше загрязнений, проще обслуживание
- Работает с Ar/He/N₂ и др., удобен в настройке
- Компактный, настраиваемая мощность/частота и опции охлаждения
- Просто сочетать с зондами/Фарадея/RPA для диагностики
Ключевые характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Привод | RF-связь () |
| Частота/мощность | 13.56 МГц (или кастом) / настраиваемая мощность |
| Газы | Ar / He / N₂ и др. |
| Интерфейсы | KF / CF / кастомные фланцы |